Structure dependent resistivity and dielectric characteristics of tantalum oxynitride thin films produced by magnetron sputtering uri icon

autores

  • Borges, Joel
  • Cláudia de Jesus Ribeiro Lopes
  • Luís António Carvalho Gachineiro da Cunha
  • Cristea, D.
  • Cunha, L.
  • Crisan, A.
  • Ion, V.
  • Cretu, N.
  • Dinescu, M.
  • Barradas, N. P.
  • Borges, J.
  • Alves, E.
  • Lopes, C.
  • Apreutesei, M.
  • Cunha, L.
  • Ion, V.
  • Munteanu, D.
  • Aksoy-Aksel, A.
  • Cristea, D.
  • Crisan, A.
  • Cretu, N.
  • Lopes, Cláudia Jesus Ribeiro

data de publicação

  • janeiro 1, 2015