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Structural characterization of µc-Si:H films produced by R.F. magnetron sputtering
Artigo Académico
http://dx.doi.org/10.1016/s0167-9317(98)00236-6
Visão geral
Identidade
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Visão geral
autores
Cerqueira, María de Fátima
Cerqueira, M.F
Ferreira, J.A
Andritschky, M
Costa, Manuel F. M.
data de publicação
agosto 1, 1998
publicada em
Microelectronic Engineering
Revista
Identidade
Digital Object Identifier (DOI)
https://doi.org/10.1016/s0167-9317(98)00236-6
Informação adicional documento
Página Inicial
627
página final
634
Volume
43-44