Energy storage performance of ferroelectric ZrO2 film capacitors: effect of HfO2:Al2O3 dielectric insert layer uri icon

autores

  • José Pedro Basto da Silva
  • Maria de Jesus de Matos Gomes
  • Mario Antonio CAIXEIRO DE CASTRO PEREIRA
  • Ghica, C.
  • J. P. B. Silva
  • Chahboun, A.
  • J. M. B. Silva
  • K. C. Sekhar
  • Gomes, M. J. M.
  • H. Palneedi
  • Istrate, M. C.
  • Silva, José Pedro Basto
  • Negrea, R. F.
  • Silva, J. M. B.
  • C. Ghica
  • Sekhar, K. C.
  • Aksoy-Aksel, A.
  • Palneedi, H.
  • Istrate, M. C.
  • Negrea, R. F.

data de publicação

  • janeiro 1, 2020