Characterization of titanium silicon nitride films deposited by PVD Artigo Académico uri icon

autores

  • Luis Manuel Fernandes Rebouta
  • Vaz, F
  • Rebouta, L
  • da Silva, RMC
  • Da Silva, M.F.
  • Soares, JC
  • Vaz, F.
  • Rebouta, L.
  • Aksoy-Aksel, A.

data de publicação

  • janeiro 1, 1999

publicada em