VIVO
Selecione um idioma
Português (Portugal)
English (United States)
Index
Formulário de pesquisa
Início
Pessoas
Organizações
Investigação
The influence of electric field on the microstructure of nc-Si:H films produced by RF magnetron sputtering
http://dx.doi.org/10.1016/j.vacuum.2008.03.054
full text
Visão geral
Pesquisas
Identidade
Informação adicional documento
Ver Todos
Visão geral
autores
Cerqueira, María de Fátima
Thaiyalnayaki, V.
Cerqueira, M.F.
Ferreira, J.A.
Tovar, J.
data de publicação
agosto 1, 2008
publicada em
Vacuum
Revista
Pesquisas
palavras-chave
Optical properties
Stress
Thin films
nc-Si
Identidade
Digital Object Identifier (DOI)
https://doi.org/10.1016/j.vacuum.2008.03.054
Informação adicional documento
Página Inicial
1433
página final
1436
Volume
82
questão
12