The influence of electric field on the microstructure of nc-Si:H films produced by RF magnetron sputtering uri icon

autores

  • Cerqueira, María de Fátima
  • Thaiyalnayaki, V.
  • Cerqueira, M.F.
  • Ferreira, J.A.
  • Tovar, J.

data de publicação

  • agosto 1, 2008

publicada em