Composition and structure variation for magnetron sputtered tantalum oxynitride thin films, as function of deposition parameters uri icon

autores

  • Cacilda Maria Lima de Moura
  • Cristea, D.
  • Moura, C.
  • Cunha, L.
  • P¿tru, M.
  • Crisan, A.
  • Cristea, D.
  • Munteanu, D.
  • Pătru, M.
  • Crisan, A.
  • Cr¿ciun, D.
  • Barradas, N.P.
  • Munteanu, D.
  • Alves, E.
  • Crăciun, D.
  • Aksoy-Aksel, A.
  • Barradas, N. P.
  • Alves, E.
  • Apreutesei, M.

data de publicação

  • janeiro 1, 2015