autores
- Alpuim, P.
- Ferdov, S.
- Goncalves, L.M.
- Teresa Maria dos Santos Ribeiro Viseu
- Alpuim, P.
- Ferdov, S.
- Bourée, J. E.
- Gonçalves, L.M.
- Alpuim, P.
- Marins, E.S.
- Gonçalves, L. M.
- Viseu, T.M.R.
- Ferdov, S.
- Marins, E. S.
- Bourée, J.E.
- Viseu, T. M. R.
Deposition of silicon nitride thin films by hot-wire CVD at 100 °C and 250 °C
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