Deposition of silicon nitride thin films by hot-wire CVD at 100 °C and 250 °C Artigo Académico uri icon

autores

  • Alpuim, P.
  • Ferdov, S.
  • Goncalves, L.M.
  • Teresa Maria dos Santos Ribeiro Viseu
  • Alpuim, P.
  • Ferdov, S.
  • Bourée, J. E.
  • Gonçalves, L.M.
  • Alpuim, P.
  • Marins, E.S.
  • Gonçalves, L. M.
  • Viseu, T.M.R.
  • Ferdov, S.
  • Marins, E. S.
  • Bourée, J.E.
  • Viseu, T. M. R.

data de publicação

  • janeiro 1, 2009