Effect of substrate bias voltage on amorphous Si-C-N films produced by PVD techniques uri icon

autores

  • Cacilda Maria Lima de Moura
  • Luís António Carvalho Gachineiro da Cunha
  • Cunha, L.
  • Pischow, K.
  • Cunha, L.
  • Moura, C.
  • Leme, J.
  • Moura, C.
  • Andrês, G.
  • Leme, J.
  • Andrês, G.
  • Pischow, K.

data de publicação

  • janeiro 1, 2004