Influence of hydrogen plasma thermal treatment on the properties of ZnO:Al thin films prepared by dc magnetron sputtering Artigo Académico uri icon

autores

  • Alpuim, P.
  • Cerqueira, María de Fátima
  • Luis Manuel Fernandes Rebouta
  • Alpuim, P.
  • Castro, M. V.
  • Cerqueira, M. P.
  • Garcia, C. B.
  • Júnior, G. L.
  • Rebouta, L.
  • Alpuim, P.
  • Tavares, Carlos José
  • Castro, M. V.
  • Garcia, C. B.
  • Cerqueira, M. F.
  • Junior, G. L.
  • Rebouta, L.
  • Tavares, C. J.

data de publicação

  • janeiro 1, 2014

publicada em