autores
- Teixeira, Vasco M. P.
- Gao, P.
- Meng, L.J.
- Dos Santos, M.P.
- Teixeira, V.
- Andritschky, M.
Influence of sputtering power and the substrate-target distance on the properties of ZrO2 films prepared by RF reactive sputtering
Artigo Académico
- Visão geral
- Identidade
- Informação adicional documento
- Ver Todos