Effect of nitrogen gas flow on amorphous Si-C-N films produced by PVD techniques Artigo Académico uri icon

autores

  • Cacilda Maria Lima de Moura
  • Luís António Carvalho Gachineiro da Cunha
  • Moura, C.
  • Cunha, L.
  • Rybinski, M.
  • Mrzyk, D.
  • Órfao, H.
  • Moura, C.
  • Pischow, K.
  • Cunha, L.
  • De Rijk, J.
  • Orfão, H.
  • Rybinski, M.
  • Mrzyk, D.
  • Pischow, K.

data de publicação

  • janeiro 1, 2003