Hydrogen plasma treatment of very thin p-type nanocrystalline Si films grown by RF-PECVD in the presence of B(CH3)(3) Artigo Académico uri icon

autores

  • Filonovich, S.
  • Aguas, Hugo
  • Busani, T.
  • António Augusto Martins de Oliveira Soares Vicente
  • Andreia Araújo
  • Diana Gaspar
  • Vilarigues, M.
  • Aksoy-Aksel, A.

data de publicação

  • janeiro 1, 2012