In-situ XRD vs ex-situ vacuum annealing of tantalum oxynitride thin films: Assessments on the structural evolution Artigo Académico uri icon

autores

  • Cacilda Maria Lima de Moura
  • Luís António Carvalho Gachineiro da Cunha
  • Barradas, N. P.
  • Cunha, L.
  • Apreutesei, M.
  • Cristea, D.
  • Cunha, L.
  • Moura, C.
  • Alves, E.
  • Apreutesei, M.
  • Barradas, N.P.
  • Moura, C.
  • Alves, E.
  • Cristea, D.

data de publicação

  • janeiro 1, 2017