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The influence of electric field on the microstructure of nc-Si:H films produced by R.F magnetron sputtering
Artigo Académico
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Identidade
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autores
Cerqueira, María de Fátima
data de publicação
janeiro 1, 2008
publicada em
Vacuum vol 82, pp. 1433-1436 (2008)
Revista
Identidade
Digital Object Identifier (DOI)
https://doi.org/10.1016/j.vacuum.2008.03.054