Annealing induced effect on the physical properties of ion-beam sputtered 0.5 Ba (Zr 0.2 Ti 0.8 )O 3 -0.5 (Ba 0.7 Ca 0.3 )TiO 3-d ferroelectric thin films uri icon

autores

  • José Pedro Basto da Silva
  • Maria de Jesus de Matos Gomes
  • Mario Antonio CAIXEIRO DE CASTRO PEREIRA
  • M.J.S. Oliveira
  • Sekhar, K. C.
  • Agostinho Moreira, J.
  • J.P.B. Silva
  • Katerina Veltruská
  • Gomes, M. J. M.
  • Matolín, V.
  • K.C. Sekhar
  • Oliveira, M. J. S.
  • J. Agostinho Moreira
  • Silva, José Pedro Basto
  • M. Pereira
  • Veltruská, K.
  • Gomes, M.J.M.
  • Matolín, V.

data de publicação

  • janeiro 1, 2018