Corrigendum to Effect on the electrical and morphological properties of Bi incorporation into ZnO:Ga and ZnO:Al thin films deposited by confocal magnetron sputtering [Vacuum 152 (2018) 252–260](S0042207X17319036)(10.1016/j.vacuum.2018.03.033) uri icon

autores

  • C.J. Tavares
  • Correia, F.C.
  • Tavares, C. J.
  • P.B. Salvador
  • J.M. Ribeiro
  • Paulo B. Salvador
  • A. Mendes
  • Ribeiro, J. M.
  • C.J. Tavares
  • Mendes, A.
  • Correia, F. C.
  • Salvador, P. B.
  • Aksoy-Aksel, A.

data de publicação

  • janeiro 1, 2018

publicada em