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Oxidation behaviour of TiSiN(Ag) films deposited by high power impulse magnetron sputtering
Artigo Académico
http://dx.doi.org/10.1016/j.tsf.2019.137423
Visão geral
Identidade
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Visão geral
autores
Carvalho, S.
Cavaleiro, D.
Cavaleiro, A.
Carvalho, S.
Fernandes, F.
data de publicação
outubro 1, 2019
publicada em
Thin Solid Films
Revista
Identidade
Digital Object Identifier (DOI)
https://doi.org/10.1016/j.tsf.2019.137423
Informação adicional documento
Página Inicial
137423
Volume
688