Oxidation behaviour of TiSiN(Ag) films deposited by high power impulse magnetron sputtering Artigo Académico uri icon

autores

  • Carvalho, S.
  • Cavaleiro, D.
  • Cavaleiro, A.
  • Carvalho, S.
  • Fernandes, F.

data de publicação

  • outubro 1, 2019