XPS analysis of ZnO:Ga films deposited by magnetron sputtering: Substrate bias effect uri icon

autores

  • C.J. Tavares
  • L Rebouta
  • Correia, F. C.
  • Mendes, A.
  • Bundaleski, N.
  • Tavares, C. J.
  • Teodoro, O. M. N. D.
  • Bundaleski, N.
  • Correia, M. R.
  • Rebouta, L.
  • Correia, M. R.
  • Mendes, A.
  • Rebouta, L.
  • Tavares, C. J.

data de publicação

  • janeiro 1, 2018