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Reactive DC magnetron sputtering of vanadium oxide thin films
Artigo Académico
http://www.scopus.com/inward/record.url?eid=2-s2.0-60349092854&partnerID=MN8TOARS
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Visão geral
autores
Teixeira, Vasco M. P.
Batista, C.
Mendes, J.
Teixeira, V.
Carneiro, J.
data de publicação
janeiro 1, 2008
publicada em
Key Engineering Materials
Revista
Identidade
Digital Object Identifier (DOI)
https://doi.org/10.4028/www.scientific.net/msf.587-588.343
Informação adicional documento
Página Inicial
343
página final
347
Volume
587-588