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Residual stress effects on Raman spectra of RuO2 thin films
Artigo Académico
http://www.scopus.com/inward/record.url?eid=2-s2.0-35148870063&partnerID=MN8TOARS
Visão geral
Identidade
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Visão geral
autores
Teixeira, Vasco M. P.
Meng, L.-J.
Silva, R.
Cuí, H.N.
Teixeira, V.
Dos Santos, M.P.
data de publicação
janeiro 1, 2005
publicada em
Key Engineering Materials
Revista
Identidade
Digital Object Identifier (DOI)
https://doi.org/10.4028/0-87849-969-5.583
Informação adicional documento
Página Inicial
583
página final
588
Volume
490-491