Properties of tantalum oxynitride thin films produced by magnetron sputtering: The influence of processing parameters uri icon

autores

  • Cacilda Maria Lima de Moura
  • Cristiano Simões de Abreu
  • Filipe Vaz
  • Luís António Carvalho Gachineiro da Cunha
  • Alves, E.
  • Cristea, D.
  • Constantin, D.
  • Moura, C.
  • Crisan, A.
  • Vaz, F.
  • Abreu, C.S.
  • Cunha, L.
  • Cristea, D.
  • Gomes, J.R.
  • Barradas, N.P.
  • Constantin, D. G.
  • Alves, E.
  • Crisan, A.
  • Abreu, C. S.
  • Aksoy-Aksel, A.
  • Gomes, J. R.
  • Barradas, N. P.

data de publicação

  • janeiro 1, 2013

publicada em